貴金屬真空濺射靶材

      隨著工業(yè)的發(fā)展，保護(hù)環(huán)境的要求越來越高，水鍍行業(yè)由于對環(huán)境的危害性極大，正逐漸被真空離子鍍所取代。2001年，我們完成了政府科技項(xiàng)目《真空離子鍍靶材的研制》，并在國外有關(guān)專家及國內(nèi)相關(guān)院校、研究所的協(xié)助下，不斷完善工藝體系。目前，我們已能生產(chǎn)多種規(guī)格和成份的靶材以及金、銀、鉑、鈀及其合金的板材、片材，并供應(yīng)給日本、香港、臺(tái)灣等國內(nèi)外企業(yè)，均獲得好評。

      金駿瑋公司自主研發(fā)生產(chǎn)的真空濺射靶材成分設(shè)計(jì)合理、表面平整光滑，具有純度高、微觀結(jié)構(gòu)優(yōu)異及利用率高等特點(diǎn)，被廣泛應(yīng)用于裝飾行業(yè)、電子行業(yè)的表面處理領(lǐng)域。產(chǎn)品系列以貴金屬濺射靶材為主,靶型主要有：平面矩形、柱形、圓盤形、環(huán)形、粒狀等，規(guī)格和成分亦可以根據(jù)用戶的具體要求而定做。